深圳市第8.5代TFT-LCD（含氧化物半導體及AMOLED）生產(chǎn)建設項目T2研發(fā)樓項目

      深圳市第8.5代TFT-LCD（含氧化物半導體及AMOLED）生產(chǎn)建設項目T2研發(fā)樓位于公明大道和科裕路的交匯處。項目包含一棟研發(fā)辦公樓和兩個(gè)門(mén)衛室，研發(fā)樓的建筑面積為50102.30㎡，建筑基地面積為7253.00㎡，建筑高度為33.75m。一號門(mén)衛室的建筑面積為317.39㎡，建筑基地面積344.84平方米。五號門(mén)衛建筑面積25.27㎡，基地面積為25.27㎡。